一台ASML7纳米光刻机月产能有多大？
中芯国际斥资1.2亿美元向ASML购买了一台7nm光刻机，那中芯国际多久能回本？7nm的ASML一月产能多少？ASML的7nm光刻机分为两个型号：NEX 3400B和NXE 3400C。台积电使用的就是3400B光刻机，它一小时能生产125片晶圆，一片8000美元，一天马不停蹄的工作，产能2400万美元，一月7.2亿美元；3400C，产能每小时170片，同样的计算方式，一月9.8亿美元。
所以，中芯国际花1.2亿美元购买一台光刻机，理论上一周就能回本，是稳赚不赔。将来是否还能购买ASML光刻机？全球只有ASML能生产7nm光刻机，此前中芯国际购买的7nm光刻机，曾因为美国主动的《瓦森纳协定》扣留。那么今后，我们是否还能坐享其成，购买的ASML的光刻机？答案是否定的，美国对华为已经制定了更细致，更精准的制裁手段。
中芯国际虽然没有在列，但按照美国2019年的“实体清单”做法，可能会有更多中国企业别列入。我猜，将来中芯国际也难逃美国的魔掌。到底我们自己能不能造光刻机？ASML有个奇特的规定，只有投资ASML，才能获得优先供货权。所以，台积电，特尔、三星、台积电、海力士等都是ASML的股东，ASML也就有着充足的资金支持。
所以，ASML并不是荷兰的ASML,而是整个西方的ASML。有血性的中国人听到美国的制裁，都说：我们自己造，当年“两弹一星”我们都能造出来。虽然我也不想承认，但必须得承认：眼下我们造不出来！ASML用的镜头是德国蔡司的，打破摩尔定律的EUV光源，全球只有ASML。所以，无论是资金还是技术上，眼下我们都无法替代ASML。
中芯N 1与ASML光刻机到底有何区别？
中芯国际的N 1跟ASML光刻机有什么区别？首先我必须指出这个问题逻辑不对，因为中芯国际的N 1的工艺也是要由ASML的光刻机来完成的，我估计题主的意思应该是中芯国际N 1制程工艺跟EUV光刻机的7nm工艺制程有什么区别吧，这样我详细说下中芯国际N 1的制程工艺究竟是怎么样的。中芯国际N 1首先要说明的是中芯国际的N 1是相比较14nm而言，也就是说性能的提升跟面积的减少都是以14nm为基准。
在2019年的第4季度，中芯国际就宣布攻克N 1的制程工艺，而中芯国际方面表示N 1与中芯国际14纳米制程比较，效能增加20%、功耗减少57%、逻辑面积减少63%、SoC 面积减少55%，但是在性能方面只提升20%，而真正的7nm的制程工艺性能方面是要提升30%，因此外界普遍认为中心国际N 1就是7nm的制程工艺其实错误的，中心国际的N 1应该是介意10nm至7nm之间才对，所以中芯国际对外表示不是7nm工艺，而是采用N 1来命名。
中芯国际N 1 VS 7nm两者有区别吗，答案那肯定是有的：首先N 1并未达到7nm的水准，所以第一个就是N 1的性能不如7nm。第二按照中芯国际的说法，N 1的成本略低于7nm，大概低10%。中芯国际的N 1采用是多重曝光的技术，多曝光一次，芯片的良率就会低一些，所以比EUV的极紫外光技术的良率要一些。
结语：芯片行业一向是高投入高回报，你别看美国人占据产业链上端，吃专利费，他的利润是建立在全产业上的！只要中国人找到了替代方法，剥离美国人，对方就会陷入利润枯竭，无法研发下一代技术的窘境。华为在5G和通讯技术上的崛起就是走这条路线。如今中芯国际也在重复昨天的故事，我们摆脱控制的过程，就是对方走向衰落的过程。
如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗？
专利反而不是制约我们造出高端光刻机的关键。说白了，专利是用公开的手段换取科技控制权，不公开就没有专利权，所以保密性和专利权一般不可兼得，除非公布的技术方案里，故意隐藏一些技术参数或者关键点，但是这样无法完全保护产生专利保护。而对于光刻机，ASML有很多压箱底的保密技术，不会轻易泄露，而且高端光刻机的制造难度更在于，它是全球顶尖科技工艺的汇集，并且通过顶级芯片代工企业，在生产实践中的不断验证和强化。
光刻机的制造目前被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子四家所把持。我国虽占一席之地，但只限低端设备。下面试着分析一下专利对光刻机制造的影响。光刻机的专利重要吗日本在光刻技术和光刻机制造领域起步较早，所以，日本的专利申请量最多，而且除了在本国大量布局之外，日本也比较重视在美国、韩国、中国台湾和中国大陆的专利布局。
日本光刻有先发优势，在中低端光刻机的研发投入了大量精力，也布局了大量相关专利，所以在中低端光刻技术上，实力还是很雄厚的。但是ASML后来居上，专注研发，且核心技术绝对保密，在专利建设上，也超过了尼康和佳能。近几年关于高端EUV光刻机的专利数量，排名第一的是老牌王者卡尔蔡司（Carl Zeiss），ASML位列第二名，再依次为海力士、三星，它们同时也是ASML的合作伙伴，日本尼康及佳能分别位列第四及第六位。
所以高端EUV光刻机的专利壁垒还是很高的。但需要注意：ASML深藏不漏的核心机密技术，是更具价值的。高精度光刻机的技术难点ASML的成功是全球顶尖工艺的汇集和芯片代工企业在生产实践中的不断验证和强化。它集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。
第一难点在于顶级的镜头来自独一无二的蔡司。现在世界主流的极紫光刻机的紫外光线来说要想达到13.5纳米的水平，那么物镜的数值口径要达到1.35以上，要达到这个口径很难，因为要加工亚纳米精度的大口径的镜片，用到的最大口径的镜片达到了400毫米。目前只有德国的光学公司可以达到，当然，日本尼康通过购买德国的技术也可以达到。
但浸没式光刻物镜异常复杂，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿，二十余枚镜片的初始结构设计难度极大——不仅要控制物镜波像差，更要全面控制物镜系统的偏振像差。因此，在现阶段国内物镜也无法完全替代进口产品。第二难点在于13.5nm EUV的极紫光源。业内巨头台积电及英特尔的7nm工艺使用的是浸入式ArF的光刻设备，但沉浸式光刻在7nm之后的工艺节点，难以再次发展，EUV成为了解决这一问题的关键，目前EUV光刻机光源主要采用的办法是将准分子激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。
ASML也是通过收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer，才获得光源技术的保障。我国在实验室绕过专利壁垒实现了9nm光刻2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。
据说，与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的 EUV 光刻机相比，我国的新技术使得光刻硬件只需要一台飞秒激光器和一台普通连续激光器，成本只是主流光刻机的几分之一。但一个产品从实验室，走向最后的落地，何其漫长艰难。结论是专利不是我们自主高端光刻机的最大难点光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用，再难也要坚持攻关，为了使我国的半导体产业链不受制于人，我们需要加快光刻机的研制步伐，刻不容缓。
造出ASML那种光刻机，我们中国需要多久，需要做什么？
题主所指ASML光刻机、应该是指制程在7nm以下芯片ASML的EUV光刻机。这种光刻机、是制程高端芯片的核心设备，由几万个零部件组成，集聚了许多高科技顶尖技术。有人形容光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”。而当前5G移动终端中的关键芯片，只有ASML的EUV光刻机能制程7nm甚至5nm的高端芯片。那我们中国需要多久才能制造出这种高科技水平的光刻机呢？一、我们的光刻机技术有一定储备，起步不算太晚。
但因选择路径方向问题起了个大早、却没能赶上晚集。我国早在1956年就将半导体技术列为当时国家新技术的紧急措施，比日本还早二年。並在1958年中科院拉出了中国第一根硅单晶，即今天的硅晶圆。1980年，清华大学研制出第四代分布式投影光刻机、精度高达3微米接近国际主流水平，仅次于美国。而到了今天，用中科院微电子所刘明院士的话说：国内的光刻机技术与国外技术差距有15到20年。
本来我们可以在光刻机技术上与ASML一争雄长，但我们放弃了。导致现在每年80/%的芯片靠进口，2019年超过了二万亿、出了大钱还要看人脸色。二、中国需多久才能造出媲美ASML的EUV光刻机。在高端芯片生产上我们并不弱。如北斗三号导航系统芯片、超级计算机、载人航天的嫦娥四号、歼20高性能芯片等等都是国产自主、顶级领先的。
这些技术和产品、美国是不可能卖给我们的。所以，在光刻机制造芯片领域我们不是整体落后、有一定技术储备和设备基础。科技随着市场走，从商业化考虑的是性能和成本。芯片的投入比是市场价的20/%，不是纯利润的20/%。如高通的40/%利润在中国，没有足够的利润支撑进一步科技投入，光刻机技术进步将放缓、也给我们追赶顶端光刻机技术留下了宝贵时间。
美国禁售华为芯片，华为的确受困。但中国产品去美化、我国加大政策扶持力度、增加资金投入和研发光刻机进度，与先进水平的距离就会减小到7到8年。还有，科学技术日新月异，光刻机研发技术和手段丰富多样化。以前造一架飞机图纸就要几卡车、造两弹一星用手摇计算机要很长时间，现在辅以其它设施一部电脑就够了，技术手段也更加先进和多样化。
中国有众多卓越的科研人员、齐全的工业体系、集中力量办大事的传统，在3到5年时间内即可生产出媲美ASML的EUV光刻机。局座张召忠面对媒体说过这样一句话：“三年后美国的芯片卖不出去，满大街都是”。寓意是中国造出顶端光刻机后对美国的芯片会大幅减少依赖。三、中国现在攻关制造顶级光刻机需要做什么？具体来说：是政策支持、尊重科学、实事求是、砥砺前行。
1、我国巳出台相关政策，加大了对半导体行业的扶持力度。策略上将实事求是由点到面、由易到难自主地“科学造机”而不是“运动造机”。2、面向世界招揽人才，如数学、化学和物理、自动化控制软件、精密机械加工、图像识别等等专家，集众才之智得制造顶级光刻机之益。3、汇聚国内科研力量、加大光刻机研发力度。在极紫外光源控制、透镜精密加工工艺、掩膜材料筛选使用，及光刻胶、CMP抛光液、电子气体等方面我们国产化率还低于20/%，还要进行攻关做到自主产权的产品用到尖端光刻机上面。
4、完善制造顶级光刻机零部件生产的产业生态链。由于美国利用《瓦纳森》协议封锁了EUV光刻机制造技术和设施及设备，如仅凭华为一家去闯会困难更重。所以应整合全球顶级设备商的能力，在集中力量攻坚克难、自主研发的基础上，面向世界全方位寻友借力并举来加快研发制造进程。ASML公司曾表示，即使将EUV图纸公开，也没人能造的出来。
中国中微造出3nm刻蚀机，与荷兰ASML光刻机还有多大差距？
科学的东西太尖端、绕口令似的解释，咱也听不明白，打个比方跟您说吧。光刻跟蚀刻是两种不同领域里使用的技术，光刻机和蚀刻机就是那不同领域里进行作业的工具，虽然他们进行的是同一个产品作业，但工序不一样。就像做一件衣服，光刻是在设计样式、尺寸并绘制图形，蚀刻是进行分割、裁剪。一件衣服究竟怎么样，不仅看设计的好不好，线条划没划歪；也要看分割得好不好，剪没剪走形。
荷兰ASML阿斯麦不卖中国光刻机，为啥却中国无锡建服务中心？
昨天各大媒体纷纷报道荷兰ASML技术服务基地落户与江苏无锡，这一下让不少关心光刻机的网友激动，很多人以为这就是荷兰ASML要在我们国内建立光刻机生产工厂了。然而实际究竟是什么样呢？下面来进行接受。相关新闻报道内容：无锡高新区管委会与阿斯麦（ASML）公司正式签署了战略合作协议，后者将在原有基础上对资源进行整合提升，加速扩建光刻设备技术服务（无锡）基地。
然而仔细读完这个新闻报道，你就会发现荷兰的ASML并不是在江苏无锡建立光刻机生产工厂，它只是在江苏建立一个技术服务基地，主要用于更加方便的为它的客户服务。这个服务中心包含了两大业务板块1、面积超过2000平方米，拥有近200人的技术服务中心，负责光刻机的维护、升级等服务。2、面积超过2000平方米的供应链服务中心，为它的用户提供高效的供应链服务，为各种流程提供更加高效的物流支持。
因此这不是什么光刻机生产工厂，ASML在深圳以及国内其它的城市也是有研发分公司，并且在前几年就和无锡有过相关的合作。而这次再次进行握手合作，是因为我们国家是对芯片需求量巨大，比较多的公司都是它的客户，建立服务中心就是为了更加好的服务客户。荷兰ASML不出售我们光刻机这件事也要从国内中芯国际花一亿多美元订购的EUV光刻机说起，本来双方说的是上年就可以交货，然而到现在也是没有什么动静。
这主要还是迫于老美的压力，因为荷兰ASML光刻机的一部分技术也是由一些美国公司提供。这其中有一个以西方国家带头《瓦森纳协定》也是限制我们的芯片技术，例如光刻机的必备关键器件镜头来说，一直是德国的蔡司做的最厉害。而蔡司镜头根本不对我们出售，它的技术也是经过几十年甚至上百年的技术沉淀而来。并且ASML也是有一条规定，是它的股东可以优先得到最新的光刻机，其它的公司想要购买只能去排队。
像三星、台积电这两家公司都是它的股东，都是可以优先获得光刻机。而一部分网友也在西安国际机场见到光刻机卸机，这是三星西安工厂订购的光刻机，主要用于生产内存颗粒，并不能够生产顶级手机芯片。仅仅靠着荷兰ASML一家也是做不出顶级光刻机，它也是靠着全球各大顶尖公司的技术进行相关整合而来。就算是它非常看中我们国内的市场，但是也是很无奈，也要受制于老美。
因此也就不存在说什么建立光刻机工厂了，想买到它的光刻机都不容易。别人是不可能会给我们光刻机技术，同时也没什么某些人嘴里说的所谓科学无国界说法。光刻机想要进行赶超，还是需要自身的不断自力更生，不断的加大研发投入，进行相应技术积累。像我们以前在2G、3G网络时代都是受制于人，而在4G时代实现了追赶，如今的5G时代我们实现了超越。
全球最先进光刻机厂商ASML无锡建厂，高管表态重视中国市场，你们怎么看？
全球最先进的光刻机生产商ASML将在无锡建厂?看到这个题目，我兴奋地从沙发上跳起来，我以为ASML将在中国建设EUV光刻机生产线呢，但当我进一步去核实信息的时候，却略带一点失望。我们现在来看一下这个事情到底是怎么一回事。5月14日，微信公众号“无锡发布”发布消息称，全球芯片制造设备巨头阿斯麦（ASML)）公司与无锡高新区签署战略合作协议，在无锡高新区内扩建升级阿斯麦光刻设备技术服务（无锡）基地。
大家才看清楚了，这个是一个服务基地，并不是光刻机生产工厂，实际上很早之前ASML就在无锡就建有技术服务基地，只不过这一次将扩大技术服务基地的规模而已。但是这个服务基地并不是用于生产光刻机，升级后的基地主要涵盖两大业务板块：拥有近200人规模专业团队的技术中心，将从事光刻设备的维护、升级等技术服务；面积约2000余平方米的供应链服务中心，将为客户提供高效的供应链服务，为设备安装，升级及生产运营等所需的物料提供更高水准的物流支持。
说得简单点，其实这个就是一个集技术服务与物流供应的一个基地而已。除了无锡之外，实际上目前ASML还在北京，上海，深圳设置有分公司，其中深圳是ASML在亚洲最大的软件开发中心。而ASML之所以要升级无锡服务基地，其目的是为了更好服务中国客户，毕竟中国作为全球芯片消费最大的国家之一，目前我国的芯片代工以及生产企业也是比较多的，比如中芯国际，紫光集团都是芯片生产的重要参与者，他们都是ASML重要的客户，所以ASML加大对无锡服务基地的升级，其实也是为了更好的服务这些客户而已。
但从目前的国际形势来看，ASML是不可能在我国设立光刻机生产基地的，毕竟目前西方很多国家都对我国的芯片技术进行封锁，在美国牵头的《瓦森纳协定》（Wassenaar Arrangement）的影响下，即便ASML非常看重中国市场，也有意愿跟中国企业合作，但是他们也不敢随便向中国出口高端高刻机，更不要说直接在中国设置光刻机生产基地了。
比如2018年的时候，中芯国际就花了1.2亿美元向ASML订购了一台7nm光刻机，按照原来的计划，ASML将在2019年底向中芯国际交货，但目前2020年已经过了一半，至今这台EUV光刻机仍然没有消息。这个事情着实给那些坚持科技无国界的人狠狠打了一巴掌，所谓的科技无国界是针对西方国家而言的，一旦中国有什么先进的技术了，他们就迫不及待地希望中国能够分享技术成果，比如中国在量子通讯技术方面已经领先世界，这时候很多西方国家就希望中国放开这个技术领域，实现技术共享。
但在芯片这个事情上，很多西方国家一直对我国进行技术封锁，包括美国在内很多国家不仅严禁向我国出口一些核心的芯片，甚至连荷兰ASML要向我国出口EUV光刻机都得看美国三分脸色。所以大家不要指望荷兰ASML能够大量向我国出口高端光科技，更不要奢望ASML能在我国设立光刻机生产基地。要解决我国芯片的事情，必须依靠我们自己，想要打破西方对我国芯片技术的封锁，我们国内的企业就必须团结起来，充分发挥自己的各自优势，这样才能尽早研发出我国拥有自主产权的高端光刻机，这样才能摆脱对ASML的依赖。
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