传中国已经设计好35nm光刻机，那么它何时能制作出来呢？
怎么又冒出个35nm的光刻机？没听说过！估计是哪位记性不好的大喷子记错了数据，28nm给你喷成35nm了。真是瞎喷呀！关于国产光刻机，原来能国产的是90nm的，上海微电子公司可以生产。至于更高制程的光刻机有两个消息：一丶2019年4月从网上了解到，武汉国家光电研究中心甘棕松团队成功研制出9nm工艺光刻机，此次研发成功的光刻机与西方国家有所不同，是用两束激光在自研光刻机上突破了光束衍射极限的限制，刻出了最小9nm线宽的线段。
但是，直到现在一直没有进一步的消息。可能是遇到了难以突破的困难，估计‘黄＇了。二丶上海微电子己设计出28nm光刻机，并且说2020年底前有望出货，结果2020年底没有实现出货，今年又说年底前可以出货，估计这回应该差不多吧，必竟上海微电子有造光刻机的基础。近日据日经亚洲一篇关于中国芯片产业链实力调查的文章透露，上海微电子光刻机有了最新进展，不但28纳米光刻机要来了，甚至14nm光刻机也己经突破，情况确实令人振奋。
中国光刻机明年可以达到世界较为先进的水平，开始迈入芯片强国吗？
光刻机是一种十分特殊的大型设备，在这个领域，属于荷兰的ASML一家独大，日本的尼康、佳能虽然价格便宜，但是远逊ASML ，而我国，在很早之前就开始研发光刻机，也已经推出了比较成熟的产品，但是一般用于粗放型的半导体产业上面，跟尼康、佳能比还有差距，跟ASML的差距，更是短期内无法弥补的。而芯片产业呢，更是我们现在大力发展的产业，原因也没有别的，因为它太重要了，基本上大部分的电子产品、汽车上面都要用到各种芯片，而我国现在80%以上的芯片都要进口，每年我们大概要花三千亿美元进口芯片，是进口贸易中最大的一单，比石油进口的金额还要大。
特别是高端芯片，基本全部依靠进口。之前中兴事件闹得很凶，就是美国在卡我们芯片。实际上，如果外国如果要在芯片上卡住我们，我们短期内还真没有办法。我们现在的优势是市场巨大，需求巨大，外国企业即便有政府压力，也不敢轻易放弃我们这么巨大的市场。要制造，研发制造芯片都是很费钱的，如果市场萎靡，那么芯片企业很有可能就要亏损，我国的芯片市场如果被屏蔽，那么全世界的芯片企业恐怕日子都会很难过。
虽然由于市场的原因，一般的企业不会不出口芯片给我们，但是如此巨大的一块市场，一直把控在外国人手里，始终不是长久之计，因此我们现在大力发展芯片产业。但是，芯片产业要想全面发展，真的是很困难的，这不是一件简单砸钱就能完成的事，需要大量的研发技术，众多产业链的配合，还要大量的时间积累，绝不是一朝一夕的事情。
就拿芯片制造这事来说吧，抛开封装，单单就说在晶元上制造出我们想要的芯片，就需要五个步骤，分别是photo、etch、thin film、diff、c
文章TAG：suss 连用