能生产光刻机并不代表能够生产芯片。芯片产业链非常复杂，光刻机仅是其中一种关键设备而已。芯片产业链包括三个环节，芯片设计（上游）、晶圆制造及加工（中游）、封测（下游）：1、芯片设计：即半导体或集成电路（IC）设计。这里用到一种关键的设计软件EDA。EDA 领域的三大巨头Synopsys、Cadence、Mentor，几乎都可以提供芯片设计全流程工具。
2018年全球前5大无晶圆厂IC设计公司（Fabless）有博通、高通、英伟达、联发科、海思。2、晶圆制造及加工：半导体的制造投资中75-80%的费用是设备投资，而设备投资中的70-80%又会用于晶圆制造环节的设备上。在这些设备当中，刻蚀设备20%、光刻设备30%、物理气相沉积15%、化学气相沉积10%、量测设备10%，其次是扩散设备5%、抛光设备5%、离子注入5%。
晶圆表面上的电路设计图案直接由光刻技术决定。光刻工艺决定着整个IC工艺的特征尺寸，代表着工艺技术发展水平。荷兰ASML占据超过70%的高端光刻机市场，紧随其后的是Nikon和Canon。光刻机研发成本巨大，Intel、台积电、三星都主动出资入股ASML支持研发，并有技术人员驻厂；格罗方德、联电及中芯国际等的光刻机主要也是来自ASML。
国内光刻机厂商有上海微电子、中电科集团四十五研究所、合肥芯硕半导体等。国外刻蚀设备厂商主要有TEL、Tokyo Electron、AMAT、Lam等。国内企业中，中微半导体、北方华创等在刻蚀机方面也有突破。3、封装测试：晶圆中测测试机、分选机、探针台。电学测试是用探针对生产加工好的硅片产品功能进行测试，验证每个晶圆是否符合产品规格，检测通过的晶圆即可进行包装入库。
全球集成电路检测设备市场主要由美国泰瑞达（Teradyne）和日本爱德万（Advantest）占据，国产厂商中，领先厂商包括上海睿励、长川科技等。芯片厂商有三种类型IDM、Fabless和Foundry：1）IDM（Integrated Device Manufacture）模式：集芯片设计、芯片制造、芯片封装和测试等多个产业链环节于一身；早期多数集成电路企业采用的模式；目前仅有极少数企业能够维持。
企业主要有：三星、德州仪器（TI）。2)、Fabless（无工厂芯片供应商）模式：只负责芯片的电路设计与销售；将生产、测试、封装等环节外包。企业主要有：海思、联发科（MTK）、博通（Broadcom）。3）、Foundry（代工厂）模式：只负责制造、封装或测试的其中一个环节；不负责芯片设计；可以同时为多家设计公司提供服务，但受制于公司间的竞争关系。
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