在硅片上要做一个三极管(或场效应管),要分好几层,每一层先要做掩膜(即涂光敏光刻胶,再用光刻机对需要的部分曝光),然后通过化学手段去除曝光部分,再利用离子注入机对该部分进行离子渗透参杂,使之成为半导体(P型或者N型),以此类推,最后形成若干层而构成一个三极管,由众多三极管连接组成各种触发器,门电路,计数器,存储器等,放大器,最后成为专用的集成电路产品。
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在硅片上要做一个三极管(或场效应管),要分好几层,每一层先要做掩膜(即涂光敏光刻胶,再用光刻机对需要的部分曝光),然后通过化学手段去除曝光部分,再利用离子注入机对该部分进行离子渗透参杂,使之成为半导体(P型或者N型),以此类推,最后形成若干层而构成一个三极管,由众多三极管连接组成各种触发器,门电路,计数器,存储器等,放大器,最后成为专用的集成电路产品。
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